区熔硅片

区熔硅片
产品详情


Diameter
2"
3"
4"
5"
6"
8"
GradePrime
Growth MethodFZ
Orientation<1-0-0>,<1-1-1>
Type/DopantIntrinsic,P Type/Boron,N Type/Phos
Thichness (um)
279
380525
625675725
Thichness ToleranceStandard ±25um± 50um
Resistivity(Ohm-cm)1000-20000 ,Maximum Capabilities>20000, 1-5 ohm-cm
Surface FinishedP/E,P/P,E/E,G/G
TTV (um)Standard < 10um
Bow/Warp (um)Standard < 40um<50um
Particle<10@0.3um<30@0.5um


区熔硅片就是通过区熔法(Float Zone)长晶得到区熔单晶硅棒,然后把单晶硅棒加工成硅片,叫做区熔硅片。区熔硅片由于在长晶的过程中没有跟石英坩埚接触,硅材料处于悬浮状态,因此长晶过程中受污染少。碳含量和氧含量更低,杂质更少,电阻率更高,适用于功率器件和某些耐高压电子器件的制造。
区熔硅片在长晶过程中,通常不会像直拉法那样掺入杂质元素硼(Boron)或者磷(Phos),因此区熔硅片大多是本征型,不掺杂的高阻片,电阻率大于>1000欧姆-厘米。但是某些情况下,也可以通过NTD中照和GD气掺来实现对区熔硅棒的掺杂,以达到均匀性更好和更低的电阻率。

供应产品
区熔硅片
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